Serviço de uma parada para a máquina de revestimento do vácuo de PVD.
Da fábrica do revestimento de vácuo de PVD que constrói aos artigos consumíveis e ao oferecimento das peças sobresselentes.
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| Lugar de origem: | China |
| Marca: | JXS |
| Certificação: | CE |
| Quantidade de ordem mínima: | 1 conjunto |
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| Preço: | As per configuration |
| Detalhes da embalagem: | caso de madeira, filme plástico |
| Tempo de entrega: | 70 dias de trabalho |
| Termos de pagamento: | L / C, T / T |
| Habilidade da fonte: | 100 CONJUNTOS/ANO |
| Material da Câmara: | Aço inox 304 | Sistema de Controle: | Full Auto, semi automóvel, manual |
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| Garantia: | 1 ano | pós-venda: | Coordenador disponível para prestar serviços de manutenção no ultramar |
| Estrutura: | Parte dianteira vertical aberta | cor do revestimento: | Ouro, ouro de Rosa, azul, cinza, preto |
| tensão: | 380V, 50Hz ou feito-à-medida | Tamanho da câmara: | feitos |
| Grupo da bomba: | Bomba mecânica de Pump+Roots Pump+Diffusion/Turbo | Tecnologia do revestimento: | Multi arco ou multi arco + magnétron que engasga ou engasgar do magnétron |
| Realçar: | Unidade térmica do revestimento da evaporação,Máquina de revestimento de DLC |
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Princípio de funcionamento: O depósito do salpico é um método físico de (PVD) do depósito de vapor do depósito do filme fino engasgando. Isto envolve ejetar o material de um “alvo” que seja uma fonte em uma “carcaça” como uma bolacha de silicone. Resputtering é re-emissão do material depositado durante o processo do depósito pelo bombardeio do íon ou do átomo. Os átomos engasgados ejetados do alvo têm uma distribuição larga da energia, tipicamente até dez do eV (100.000 K). Os íons engasgados (tipicamente somente uma fração pequena das partículas ejetadas é ionizada — na ordem de 1 por cento) podem balìstica voar do alvo em linhas retas e em impacto energeticamente nas carcaças ou na câmara de vácuo (que causa resputtering). Alternativamente, em umas pressões de gás mais altas, os íons colidem com os átomos do gás que atuam como um monitor e se movem diffusively, alcançando as carcaças ou a parede da câmara de vácuo e condensando-se após ter-se submetido a uma caminhada aleatória. A escala inteira do impacto balístico alta-tensão ao movimento thermalized baixo-energia é acessível mudando a pressão de gás do fundo. O gás engasgar é frequentemente um gás inerte tal como o argônio. Para transferência de impulso eficiente, o peso atômico do gás engasgar deve ser próximo ao peso atômico do alvo, assim que para engasgar o néon claro dos elementos é preferível, quando para elementos pesados o crípton ou o xênon forem usados. Os gás reativos podem igualmente ser usados para engasgar compostos. O composto pode ser formado na superfície do alvo, durante o voo ou na carcaça segundo os parâmetros de processo. A disponibilidade de muitos parâmetros que o depósito do salpico do controle faz lhe a um processo complexo, mas igualmente permite a peritos um o grande grau de controle sobre o crescimento e a microestrutura do filme.
Característica: fácil controlar a espessura e a cor de filme, a multa e partícula lisa do filme
Aplicação: produtos 3C, relógio, joia, etc.
Processo verde: nenhum gás prejudicial, nenhumas águas residuais, nenhum material waste.
Pessoa de Contato: cassiel
Telefone: +8613929150962
